Yu Shiratsuchi 研究室
主宰者：Yu Shiratsuchi
東北大学・Spintronics Research Network of Japan
AI 要約（直近 5 年の研究成果）
本研究室は、磁性材料と電気物性を組み合わせた「マルチフェロイック」システムの開発に取り組んでいます。特に、電場をかけて磁性を制御する現象（磁電効果）に着目し、薄膜の積層構造を設計することで、従来手法では難しかった磁化の電気制御を実現しようとしています。研究対象は、強磁性体・反強磁性体・圧電体を組み合わせた複合薄膜構造であり、これらはスピントロニクス応用（低消費電力磁気記憶など）につながる可能性があります。
実験手法としては、分子線エピタキシーで高品質な単結晶薄膜を成長させ、X線回折や磁気光学効果などの分析手法で微細構造と磁性を評価しています。特に異常ホール効果という電気測定を用いることで、反強磁性層の磁気状態を検出しています。材料設計では、薄膜の厚さやひずみを微調整することで、軌道角運動量や磁気異方性を制御し、電場に対する磁化の応答性を向上させることに成功しています。
これまでの研究から、鉄やコバルト系の合金膜、特に特定の結晶方位を持つ多層構造では、非常に大きな磁電効果が得られることが報告されています。また、ネール温度（反強磁性体の相転移温度）などの基本特性も、薄膜内の化学秩序やひずみ状態により微調整可能であることが明らかになってきました。これらの知見は、次世代の磁気デバイス開発に向けた基礎研究として重要な位置づけにあります。
※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。
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研究成果（44 件）
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- DOI: https://doi.org/10.1021/acsami.5c03505
- DOI: https://doi.org/10.1109/tmrc66824.2025.11192707
- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/adf383
- DOI: https://doi.org/10.2320/materia.64.227
- DOI: https://doi.org/10.1002/advs.202413566
- DOI: https://doi.org/10.1038/s41427-024-00575-3
- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad7c55
- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad7860
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- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad78e4
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.actamat.2024.120027
- DOI: https://doi.org/10.1038/s41427-024-00541-z
- DOI: https://doi.org/10.1038/s41427-023-00524-6
- DOI: https://doi.org/10.1109/intermagshortpapers58606.2023.10228228
- DOI: https://doi.org/10.1088/1361-648x/ad16ac
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- DOI: https://doi.org/10.1016/j.jmmm.2023.171228
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0156254
- DOI: https://doi.org/10.1109/tmag.2023.3290367
- DOI: https://doi.org/10.1109/intermagshortpapers58606.2023.10228843
- DOI: https://doi.org/10.1109/intermagshortpapers58606.2023.10228416
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.jmmm.2023.170532
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- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0048321
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0044094
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