Tadashi Hatano 研究室

本研究室は、軟Ｘ線領域（真空紫外線から数keV）における分光計測の感度向上を目標として、回折格子の光学設計と材料工学に取り組んでいます。回折格子に異なる材料を多層に積層したコーティング構造を施すことで、特定のエネルギー領域での光の回折効率を高める手法を開発しており、限られた強度の軟Ｘ線をより効率よく検出器に導くことを実現しています。 研究の中心となるのは、「分光フラックス」という指標を用いた光学設計です。これは検出器に到達する光の量と相関する性能指標で、この値を最大化することで分光計測の検出感度を向上させます。具体的には、金やニッケルなどの金属層、あるいはタングステンと炭化ホウ素などの化合物を交互に積層した多層膜構造を格子表面に形成し、数値計算と実験を組み合わせて最適なコーティング厚さや層の順序を決定しています。 これまでの成果として、真空紫外線領域（35～110 eV）から軟Ｘ線領域（2～4 keV）まで、広いエネルギー範囲で回折効率を従来比で数倍以上向上させた設計が実現されています。このような高性能な分光装置は、材料の元素分析や微量成分の検出に応用される可能性があります。