Makoto Sekine 研究室

主宰者：Makoto Sekine
名古屋大学

AI 要約（直近 5 年の研究成果）

Sekine研究室は、半導体デバイスの製造に欠かせないプラズマドライエッチング技術の理解と改善を目指しています。微細加工や立体構造の形成に必要な高精度なエッチングプロセスにおいて、複雑なプラズマ化学反応をどのように制御するかが研究の中核です。具体的には、フッ素系やハイドロフルオロカーボン系のガスを用いたプラズマが、シリコンやシリコン窒化物、酸化珪素などの材料をどのように溶解するか、そのメカニズムを解明することに取り組んでいます。 研究の手法としては、プラズマシミュレーション計算と実験計測を組み合わせたアプローチが特徴です。光学放射分光やプラズマ診断技術により、プラズマ内のラジカルやイオンなどの反応種の密度や分布を測定し、その結果をシミュレーション結果と比較することで、プラズマ化学反応モデルを段階的に構築しています。また、原子層エッチングなど周期的なプロセスの表面反応をその場観測する分析手法も活用しており、さらには機械学習を用いてプロセスパラメータの複合効果を定量的に分析する取り組みもあります。 主要な発見としては、複数のガス組成やプロセス条件下で、プラズマ内の活性種と材料表面の反応の相互作用が、エッチング特性や製膜特性に大きく影響することが明らかにされています。これらの知見は、高アスペクト比デバイスの実現や選択的エッチングの実装に向けた、より効率的で精密なプロセス設計に貢献しています。

※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。

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