Shugo Nitta 研究室
主宰者:Shugo Nitta
名古屋大学
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研究成果(51 件)
- DOI: https://doi.org/10.1117/12.3082564
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0325320
- DOI: https://doi.org/10.1109/tsm.2025.3558328
- DOI: https://doi.org/10.1002/pssb.202500028
- [2025] Chemical vapor deposition of compound semiconductors: process simulation and experimental validationDOI: https://doi.org/10.35848/1882-0786/ae2f19
- DOI: https://doi.org/10.1002/advs.202509354
- [2025] On‐State Current Increasing Structure of Source‐Connected Polarization Superjunction TransistorDOI: https://doi.org/10.1002/pssa.202500046
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0191774
- DOI: https://doi.org/10.7567/ssdm.2024.d-7-03
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- DOI: https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2024.127923
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2023.127529
- DOI: https://doi.org/10.7567/ssdm.2023.n-1-04
- [2023] Investigation of Electrical Properties of N‐Polar AlGaN/AlN Heterostructure Field‐Effect TransistorsDOI: https://doi.org/10.1002/pssa.202200871
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0146080
- [2023] Numerical simulation and validation of carbon incorporation in GaN epitaxial growth by MOVPE methodDOI: https://doi.org/10.1299/jsmecmd.2023.36.os-1406
- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/acb74c
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2023.127552
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.nimb.2023.165181
- DOI: https://doi.org/10.1002/pssr.202200127
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0083194
- DOI: https://doi.org/10.35848/1882-0786/ac5ba4
- [2022] Effect of beam current on defect formation by high-temperature implantation of Mg ions into GaNDOI: https://doi.org/10.35848/1882-0786/ac481b
- DOI: https://doi.org/10.1038/s41598-022-25522-6
- [2022] High In content nitride sub-micrometer platelet arrays for long wavelength optical applicationsDOI: https://doi.org/10.1063/5.0120723
- DOI: https://doi.org/10.35848/1882-0786/ac9c83
- [2022] Beyond <i>ab initio</i> reaction simulator: An application to GaN metalorganic vapor phase epitaxyDOI: https://doi.org/10.1063/5.0119783
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0122292
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2022.126749
- DOI: https://doi.org/10.35848/1882-0786/ac6197
- DOI: https://doi.org/10.1109/jeds.2022.3208028
- DOI: https://doi.org/10.2139/ssrn.4097952
- DOI: https://doi.org/10.1109/ted.2021.3119528
- [2021] Vertical GaN p+-n junction diode with ideal avalanche capability grown by halide vapor phase epitaxyDOI: https://doi.org/10.1063/5.0066139
- DOI: https://doi.org/10.7567/ssdm.2021.d-1-05
- DOI: https://doi.org/10.35848/1882-0786/ac0ffa
- DOI: https://doi.org/10.35848/1882-0786/abe3dc
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0076764
- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/ac06b5
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2021.126173
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0034584
- DOI: https://doi.org/10.35848/1882-0786/abe657
- DOI: https://doi.org/10.1021/acs.cgd.0c01564
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