Wei Dai 研究室

主宰者：Wei Dai
東京工業大学

AI 要約（直近 5 年の研究成果）

Wei Dai研究室は、光・電子の相互作用と物質特性制御に関する多角的な研究を展開しています。 光学・フォトニクスの領域では、二次元半導体材料における励起子の制御と発光現象を研究しています。特に、光学的に観測しにくい暗い励起子を、ナノ構造を用いて室温で活性化し、その発光を制御する技術を開発しています。また、フォトニック結晶という周期的な構造を持つ材料において、光が急激に曲がる経路を通る際の伝送特性を調査し、対称性に依存しない高い伝送効率の原理を明らかにしています。さらに、二次元材料の積層構造における電荷移動とエネルギー移動の過程を、時間・空間分解能を高めた分光測定により区別して観察する研究も行っています。 磁性材料では、薄膜パターンの磁区構造と磁化特性が、膜厚や幾何学的形状、基板の結晶方位によってどのように変化するかを調べています。一方、情報通信分野では、カオス理論とインデックス変調という変調技術を組み合わせた暗号化・秘匿通信スキームを提案し、光ファイバーでの高速データ伝送実験で検証しています。これらの研究を通じて、ナノスケールでの光・電磁現象の制御と応用可能性の拡大を目指しています。

※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。

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