Naoka Nagamura 研究室

主宰者：Naoka Nagamura
東京理科大学

AI 要約（直近 5 年の研究成果）

この研究室は、薄膜や二次元材料の成長・合成プロセスの制御と、それらの電子構造や界面特性の解明に取り組んでいます。分子線エピタキシーや化学気相成長などの成膜技術を用いて、銅、グラフェン、遷移金属カルコゲナイド（MoS₂など）といった様々な材料の薄膜を作製し、その構造変化や電子状態を調べています。特に、磁性絶縁体上のグラフェンといった新しい材料組み合わせや、置換ドーピングによる不純物導入など、新機能の実現を目指した材料設計にも関心を持っています。 データ解析の側面では、機械学習と統計解析を活用した自動化分析手法の開発も重要なテーマです。反射型高速電子線回折（RHEED）画像の解析、X線光電子分光（XPS）スペクトルのピークフィッティング、放射光マイクロスペクトロスコピーの画像処理など、実験から得られる大規模で複雑なデータから有用な情報を効率的に抽出する方法を構築しています。これにより、研究者の経験や直感に頼らない定量的な材料評価が可能になります。 さらに、電池や触媒といったエネルギー・環境デバイスの開発にも貢献しており、超臨界流体を用いた電極材料の改質、有機系電池、酸素還元反応用触媒など、持続可能な材料開発にも取り組んでいます。理論計算との連携や非破壊分析手法（operando測定）の活用により、材料の機能発現メカニズムを多角的に理解しようとしています。

※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。

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