K. Iida 研究室

主宰者：K. Iida
日本大学

AI 要約（直近 5 年の研究成果）

この研究室は、超伝導体の薄膜成長と物性制御に関する研究を行っています。特に、鉄系超伝導体と銅酸化物系超伝導体の二つの主要な超伝導物質に焦点を当てており、分子線エピタキシーやパルスレーザー堆積などの成膜技術を用いて高品質な薄膜試料を作製しています。これらの薄膜は、バルク単結晶では達成困難な新規な化学組成や機械的に歪みのない状態を実現することを可能にし、超伝導特性の本質的な理解につながります。 研究の中心課題は、超伝導電流が流れる際の阻害要因である粒界（結晶粒同士の境目）の影響を明らかにすることです。異なる方向に傾いた粒界を持つ試料を意図的に作製し、粒界の方向角度と超伝導特性の関係を詳細に調査しています。鉄系超伝導体は銅酸化物系超伝導体よりも粒界に対する耐性が高いという特徴を発見し、これは実用的な多結晶超伝導材料の開発に重要な知見となります。 さらに、超伝導電流の向上に向けた材料設計にも取り組んでいます。元素ドーピングや界面設計による化学的な改質、欠陥を活用した渦のピニング制御など、様々な手法により臨界電流密度を高める研究を展開しています。これらの研究成果は、次世代の高磁場超伝導マグネットなど、エネルギー・医療分野の応用技術への貢献を見据えています。

※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。

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