Yoshito Ashizawa 研究室

本研究室は、電磁場現象の解析と計測に関する研究を行っています。特に、金属ナノ構造を含む薄膜やプラズモニック素子など、微細な構造を持つ材料・デバイスの電磁気的な性質を理論的・実験的に調べることに取り組んでいます。光や電磁波との相互作用を明らかにすることで、次世代の光学デバイスや磁場センサの設計に貢献することを目指しています。 電磁場の時間変化を追跡する数値計算手法の開発も重要なテーマです。ナノ秒からピコ秒といった極めて短い時間スケールでの電磁現象を捉えるため、周波数領域の境界積分方程式と逆ラプラス変換を組み合わせた解析手法を構築しています。この手法により、媒質の周波数特性を容易に組み込むことができ、誤差評価が明確になり、任意の観測時間での電磁場分布を効率的に計算できます。 一方、表面の電圧分布を非接触で計測する装置の開発にも取り組んでいます。静電力顕微鏡を用いた計測システムの高度化を進め、大面積走査と高い空間分解能を両立させることを課題としています。特に、センサと試料間の距離を自動的に一定に保つ技術を開発することで、大気中でも安定した高精度計測を実現しています。