Hidehiro Yoshida 研究室

主宰者：Hidehiro Yoshida
東京大学

AI 要約（直近 5 年の研究成果）

本研究室は、セラミックス材料の変形・焼結・拡散現象を電場や機械的刺激の観点から総合的に研究しています。主な対象は酸化物系セラミックス、特にジルコニア（安定化ジルコニア）やアルミナなどであり、これらの材料がどのような条件下でどのように挙動するかを明らかにすることを目指しています。 電場を印加した高速焼結（フラッシュ焼結）に関する研究では、強い電場の下で従来の加熱では考えられない速度でイオンが移動し、焼結が進むメカニズムを調査しています。通常の加熱だけでは説明できない加速現象が起こることから、電場による直接的なイオンへの作用やジュール加熱以外の要因を分子動力学シミュレーションや実験により探求しています。また、結晶粒界での電子状態やイオンの電気的特性の計算を通じて、微視的な原子・イオンレベルの挙動を理解しようとしています。 一方、機械的試験（圧縮やショットピーニング）を用いた研究では、通常は脆い性質を示すセラミックスが微視的スケールや特定の結晶方位ではプラスチック変形能を持つことを報告しています。さらに、電場と機械的変形の複合効果（電気可塑性）についても検討しており、セラミックス材料の強度と靭性の向上に向けた基礎的知見の獲得を目指しています。

※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。

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