Quan Shi 研究室
主宰者:Quan Shi
東京大学
AI 要約(直近 5 年の研究成果)
本研究室は、プラズマを用いた材料表面の加工・改質を中心に取り組んでいます。具体的には、ヘリウムやアルゴンなどの希ガスプラズマを半導体や金属表面に照射することで、自己組織化された微小な構造(柱状、波状、円錐状、フェルト状など)を形成する方法を開発しています。この手法の特徴は、従来のリソグラフィー(微細加工技術)を用いずに大面積に構造を作製でき、コストが低く、材料へのダメージが少ないという点です。
形成機構の理解も重要な研究テーマであり、イオン照射中に不純物が選別的に堆積することで構造形成が誘起される仕組みを、実験と計算シミュレーションを組み合わせて解明しています。また照射温度や不純物の量を制御することで、構造の大きさや密度、厚さを調整できることを示しています。
これらの加工技術は様々な応用につながっています。表面構造の光学特性を活かしたランダムレーザーの実現、光触媒効果を応用した環境浄化、太陽電池の反射低減、さらには融合炉における材料の熱負荷対策など、基礎から応用まで幅広い領域での活用が検討されています。
※ AI(Claude)が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。
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関連研究室(8 件)
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研究成果(18 件)
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.surfin.2026.109812
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.jnucmat.2025.156134
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- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad759a
- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad5afe
- [2024] Lithography-Free Nanofabrication on Various Semiconductors by the Codeposition Etching TechniqueDOI: https://doi.org/10.1021/acs.langmuir.4c00686
- [2023] Formation of corrugated nano-fuzz tungsten thin film on silicon via helium plasma irradiationDOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad12ef
- DOI: https://doi.org/10.1016/s1872-5813(21)60333-0
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.jnucmat.2023.154783
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- DOI: https://doi.org/10.1002/ctpp.202100150
- DOI: https://doi.org/10.1021/acsaom.2c00085
- DOI: https://doi.org/10.1585/pfr.17.1302094
- DOI: https://doi.org/10.1109/cleo-pr62338.2022.10432590
- DOI: https://doi.org/10.1364/cleopr.2022.cfp8j_02
- [2021] The dependence of Mo ratio on the formation of uniform black silicon by helium plasma irradiationDOI: https://doi.org/10.1088/1361-6463/ac1190
- DOI: https://doi.org/10.3390/insects12070636
- [2021] Modeling of the impurity-induced silicon nanocone growth by low energy helium plasma irradiationDOI: https://doi.org/10.1088/2058-6272/abea71
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