Masato Kiuchi 研究室
主宰者：Masato Kiuchi
大阪大学
AI 要約（直近 5 年の研究成果）
本研究室は、低エネルギーのイオンビームを化学気相成長法と組み合わせた薄膜作成技術の開発に取り組んでいます。有機もしくは無機の前駆体物質をイオン源で分解し、生成されたイオン断片を質量選別して、基板に照射しながら材料を成膜します。この手法により、室温から数百℃の比較的低い温度でも、炭化珪素、窒化珪素、二酸化珪素、酸化錫、窒化炭素といった無機薄膜を作製することが可能です。
各研究では、異なる前駆体物質とイオン種を組み合わせることで、膜の組成や厚さを制御しています。たとえば、有機アミン類から生成した炭素窒素含有イオンを用いて窒化炭素膜を、シリコン化合物とともに酸素イオンを照射して酸化珪素膜を、それぞれ成膜しています。X線光電子分光法やラマン分光など複数の分析手法を駆使して、得られた膜の組成や結晶構造を評価し、最適なイオンエネルギーや照射時間を探索しています。このアプローチにより、従来の方法では困難な低温プロセスでの機能性薄膜製造を実現する基盤技術を構築しています。
※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。
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研究成果（17 件）
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- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0281379
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.heliyon.2025.e42442
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0214908
- DOI: https://doi.org/10.1371/journal.pone.0308383
- [2024] Low-energy O+ or SiO+ ion beam induced deposition of silicon oxide using hexamethyldisiloxaneDOI: https://doi.org/10.1016/j.nimb.2024.165276
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0172701
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.nima.2023.168707
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.heliyon.2023.e19002
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.heliyon.2023.e14643
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- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0125209
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2022.139508
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.nimb.2022.07.016
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.nimb.2021.11.022
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0077660
- DOI: https://doi.org/10.1371/journal.pone.0259216
- DOI: https://doi.org/10.1371/journal.pone.0253870
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