Chiemi Oka 研究室

主宰者Chiemi Oka
名古屋大学

AI 要約(直近 5 年の研究成果)

本研究室は、半導体製造やMEMS(微小電気機械システム)などの次世代デバイス開発に必要な「微細加工技術」と「新素材の特性制御」に関する研究を進めています。特に、薄膜材料の内部応力の測定・制御や、磁気特性を持つ材料の機能化に力を入れています。例えば、スプリング構造を用いた応力測定装置の開発や、磁性ナノ粒子を活用した磁気加熱機能を持つマイクロバルブの実装など、材料の物理的性質を精密に測定・利用する技術を確立しています。 もう一つの重要な研究テーマは「表面活性化接合」という常温での材料接合技術です。高速原子ビームを用いて異種材料の表面を活性化することで、従来の高温プロセスを必要としない接合を実現します。本研究室では、この技術の高効率化に向けて、磁場を応用した高速原子ビーム源の開発やビーム照射特性の評価を行い、大面積均一照射の実現に取り組んでいます。 さらに、形状記憶合金や非晶質合金などの機能性薄膜材料を用いた、熱応答性ポーラス構造やマイクロコイルなどの三次元微細構造の製造法の開発も進めています。磁気ナノ粒子や紫外光を活用した新しいパターニング・成形プロセスにより、従来の方法では困難だった薄型かつ高機能な構造体の実現を目指しています。

※ AI(Claude)が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。

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