Takayoshi Tsutsumi 研究室
主宰者：Takayoshi Tsutsumi
名古屋大学
AI 要約（直近 5 年の研究成果）
本研究室は、プラズマを用いた微細加工技術と材料合成に関する研究を展開しています。特に、半導体デバイスの製造に不可欠な微細構造の加工を対象としており、原子レベルの精密さで材料を削除・堆積・改質する技術の開発と理解に取り組んでいます。気体分子の設計から表面での化学反応まで、プラズマ内で起こる複雑な現象を多角的に解析することで、加工プロセスを制御する方法を探索しています。
具体的には、高アスペクト比の微細構造の加工、シリコンやシリコンゲルマニウム系材料の選択的な削除、酸化物層での欠陥生成・修復、カーボンナノウォールなどの新規炭素材料の合成といった多様なテーマを展開しています。これらの研究では、質量分析法や分光計測、走査型トンネル顕微鏡、X線光電子分光法など様々な計測手法を駆使して、プラズマプロセス中の気相反応や表面化学をその場観察・解析しています。
同時に、常圧プラズマジェットの放電メカニズムや、液体中でのプラズマによるナノ材料合成など、基礎現象の理解も進めており、これらの知見は医療応用や環境浄化といった新しい応用分野への展開にもつながっています。
※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。
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研究成果（58 件）
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- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/ae65a4
- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/ae37b6
- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/ae744d
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2026.115543
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0315151
- DOI: https://doi.org/10.35848/1882-0786/adb82e
- DOI: https://doi.org/10.1149/ma2025-02361733mtgabs
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- DOI: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2025.164180
- DOI: https://doi.org/10.35848/1882-0786/adb007
- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/adea81
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.surfin.2025.106194
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- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0184779
- DOI: https://doi.org/10.1149/ma2023-02161170mtgabs
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