Sachio Komori 研究室

主宰者：Sachio Komori
名古屋大学

AI 要約（直近 5 年の研究成果）

本研究室は、磁性体と強誘電体を組み合わせた複合材料（マルチフェロイック構造）における電場による磁性制御を中心課題としています。特に、薄膜積層構造における磁気異方性や層間相互作用を電界や圧電歪によって操作し、エネルギー効率の良いスピントロニクスデバイスの開発を目指しています。 研究の手法としては、分子線エピタキシーやスパッタリングなどの薄膜成長技術を用いて、金属磁性体、酸化物磁性体、超伝導体などを精密に積層し、その界面特性を制御します。さらに、振動磁場応答測定や磁気光学効果などの分析手法により、これらの構造における磁化ダイナミクスや電磁気応答を詳細に調査しています。 主要な知見として、合成反強磁性体（磁性層−非磁性層−磁性層の積層構造）の層間相互作用が電場印加によって可逆的に制御でき、また超伝導体と強磁性体の界面では磁場配向に応じて超伝導特性が変調されることが報告されています。これらの発見は、電気信号で磁化を制御する次世代メモリやセンサの基礎となる可能性があります。

※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。

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