Satoshi Usui 研究室

この研究室は、有機物質を気化させて基板上に薄膜を形成する気相成長技術に焦点を当てています。特に、電子輸送特性を持つ有機分子（ナフタレン系やスチレン系化合物）を対象に、従来の単純な蒸着法では得られない新しい薄膜構造の形成方法を開発しています。イオンビームや電子ビームを照射しながら成長させることで、材料の配列や重合状態を制御し、薄膜の結晶性、導電性、耐久性などの機能を調整することを目指しています。 特徴的なアプローチは、気化した有機分子に対して電子を照射する「電子励起蒸着」法です。この方法により、通常の蒸着では得られない非晶質の高分子薄膜が形成され、熱安定性が向上することが報告されています。一方で、目的とする機能と薄膜の安定性のあいだに相反する課題があることも明らかになっており、修飾基の導入による構造の最適化を検討しています。 さらに、基板表面を化学的に修飾して薄膜との界面を制御し、素子性能を向上させる研究も展開しています。これらの取り組みは、有機デバイスの信頼性向上や新機能の実現につながる基盤技術として位置づけられています。