Takahiro Kozawa 研究室

主宰者：Takahiro Kozawa
大阪大学

AI 要約（直近 5 年の研究成果）

Kozawa研究室は、半導体製造における極紫外線（EUV）およびプリント基板作成に用いられるレジスト材料の開発と、その反応メカニズムの解明に取り組んでいます。研究の核となるのは、新世代リソグラフィに必要とされる微細加工技術の実現です。現在のシリコンチップの製造では、より小さなパターンを描く必要があり、そのために高性能なレジスト（感光性の樹脂材料）が不可欠となっています。 レジスト材料の開発では、金属を含む有機–無機ハイブリッド型材料や有機金属化合物に注目し、EUVおよび電子線照射による露光感度や解像度の向上を目指しています。同時に、このような新規材料がどのような化学反応を起こすのか、また現像液での溶解挙動がどう変わるのかを詳しく調べています。特に、溶解動力学（材料がどの速度でどのように溶けるか）の研究に力を入れており、石英振動子マイクロバランス法という精密な測定技術を駆使して、レジスト薄膜の開発過程における微細な変化を追跡しています。 これらの研究を通じて、次世代半導体デバイスの製造に必要となる、より感度が高く、より精密で、欠陥が少ないレジスト材料と現像液の組み合わせを実現することを目指しています。

※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。

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