Satoshi Enomoto 研究室

主宰者：Satoshi Enomoto
大阪大学

AI 要約（直近 5 年の研究成果）

本研究室は、半導体製造における次世代微細加工技術の実現を目指し、フォトレジスト材料の開発に取り組んでいます。特に、極紫外線（EUV）を用いた微細リソグラフィ技術において、10nm以下の超微細パターン形成に対応できる新規なレジスト材料の設計と性能評価を行っています。研究の中心は、金属を含む有機-無機ハイブリッド高分子の分子設計にあります。錫などのEUV吸収効率の高い金属成分を導入し、ポーラリティ変化や連鎖切断などの化学反応メカニズムを活用することで、解像度、線幅粗さ、感度のいずれもが優れたレジスト材料を実現することが目標です。 研究手法としては、電子ビーム照射実験、放射線化学分析、石英振動子マイクロバランスによる溶解挙動評価など、多様な分析手法を組み合わせています。これらにより、レジスト内での化学反応の詳細なメカニズムを明らかにしています。さらに、電子ビームリソグラフィや実際のEUV露光装置を用いた実際のパターン形成実験により、設計した材料の実用的な加工性能を検証しています。これまでの研究から、金属含有の正極性レジスト材料が負極性材料と同等以上の微細化・高感度化が可能であること、そしてそのためには複数の化学反応を連動させた設計戦略が有効であることが報告されています。

※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。

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