Bernard Gelloz 研究室
主宰者:Bernard Gelloz
名古屋大学
AI 要約(直近 5 年の研究成果)
本研究室は、光と物質の相互作用を用いた薄膜・微細構造の非破壊評価技術の開発に取り組んでいます。特に、回転補償子を備えた画像化偏光解析法を基盤とした計測システムの高度化を進めており、光学定数と膜厚の同時決定、高空間分解能での表面評価の精度向上、及び計測可能な領域や膜厚の限界を数値シミュレーション(FDTD法)で理論的に検討しています。これらの手法は、パターン構造を持つ薄膜やマイクロデバイスの品質管理に有用です。
一方、シリコン系ナノ構造の光学特性に関する研究も推進しており、ポーラスシリコンやシリコン量子ドットの発光特性を詳細に調査しています。多孔質シリコンについては、化学・電気化学酸化過程での光学的変化や発光効率の向上機構を、その場測定により追跡する研究を行っています。また、高圧水蒸気焼成やハイドロシリル化などの表面処理によって発光安定性や量子効率を改善する方法を探索し、実用的な半導体発光素子への応用を視野に入れています。
※ AI(Claude)が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。
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関連研究室(8 件)
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研究成果(21 件)
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- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0223989
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0152098
- DOI: https://doi.org/10.3390/app13148448
- DOI: https://doi.org/10.1117/12.3005554
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- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/acff31
- DOI: https://doi.org/10.1149/2162-8777/ac7002
- DOI: https://doi.org/10.1149/2162-8777/ac757f
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2021.120938
- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/abf5ac
- DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/ac42af
- DOI: https://doi.org/10.1149/2162-8777/abe980
- [2021] Hydrosilylation of High Porosity Porous Silicon with 1-Hexene in Supercritical CO <sub>2</sub> FluidDOI: https://doi.org/10.1149/2162-8777/ac344b
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