Yuichi Nishimura 研究室

主宰者：Yuichi Nishimura
北海道大学

AI 要約（直近 5 年の研究成果）

西村研究室では、半導体製造に必要な極紫外光（EUV光）の光源開発に取り組んでいます。研究の問いは、次世代の微細な半導体パターンを製造するために、安定かつ高出力のEUV光をいかに生成・供給するかという点です。具体的には、スズの微小液滴にレーザーを照射してプラズマを発生させ、そこからEUV光を取り出す方式を採用しています。この手法では、二酸化炭素レーザーを用いた二重パルス照射や磁場を使ったスズの飛散防止技術など、複数の工学的工夫を組み合わせています。 これまでの研究で、光源の高出力化と安定性の向上が実現されてきました。特に、反射鏡の劣化を抑制しながら数百ワット級の出力を達成し、長時間連続運転での信頼性を実証しています。また、出力エネルギーのばらつきを低く保つことで、製造装置として必要な精度条件を満たす光源の実現に向けた進展が報告されています。 一方、沿岸域の津波堆積物に関する研究も行われており、地層中の鉱物や化学物質、微生物化石などを調べることで、過去の津波の規模や影響を推定する手法を開発しています。これらの研究は東日本大震災後の防災・減災への貢献も目指しています。

※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。

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