Hidetsugu Yoshida 研究室

主宰者：Hidetsugu Yoshida
大阪大学

AI 要約（直近 5 年の研究成果）

光学デバイスの性能向上に必要とされる光学薄膜コーティングの製造プロセスと、高性能固体レーザーの開発に取り組んでいます。薄膜コーティングに関しては、製造時に生じる応力によるはがれや材料選択の制限といった課題に対して、屈折率制御と応力低減を両立させる新しい製造手法の開発を進めています。同時に、希土類イオンを含む透明セラミックスの光学特性を精密に制御し、レーザー媒質としての性能を引き出す研究も行っています。 固体レーザーの開発では、イッテルビウム添加イットリウム・アルミニウム・ガーネット結晶をゲイン媒質として用い、液体窒素による冷却を組み合わせた高出力レーザーシステムの構築を目指しています。パルスエネルギーと繰り返し周波数の両方を高めることで、平均出力を大幅に増加させることが目標です。特に、レーザー媒質の端部に冷却機構を設けることで、不要な寄生振動を抑制し、安定した温度分布を実現する工夫が特徴となっています。これらの研究により、高エネルギー密度物理や材料加工など様々な応用分野への貢献を目指しています。

※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。

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