Seiichi Miyazaki 研究室

主宰者：Seiichi Miyazaki
名古屋大学

AI 要約（直近 5 年の研究成果）

本研究室は、シリコンを基盤とした光電子デバイスの実現を目指した研究を展開しています。具体的には、シリコンやゲルマニウムなどの半導体を数ナノメートルスケールの微粒子（量子ドット）に加工し、これらを高密度に配列させることで、室温での安定的な光放出を実現する研究に取り組んでいます。特に、鉄珪化物コアとシリコンシェルの複合構造を持つ超原子的な量子ドットの作製に成功し、近赤外領域での発光特性を評価しています。 手法としては、低圧化学気相成長法やプラズマ処理、熱アニーリングなどのプロセス技術を組み合わせ、シリコン酸化膜上への量子ドット形成と配列制御に関する基礎研究を行っています。SOI基板やパターン化された基板を用いることで、ドットの大きさや密度、配列パターンを精密に制御する方法を開発しています。 これらの成果から、量子閉じ込め効果により離散的なエネルギー準位が形成されることが確認されており、ドットサイズの縮小に伴う発光エネルギーの青方偏移や電子放出特性の向上などが報告されています。将来的には、既存のシリコン超大規模集積回路製造技術との高い互換性を保ちながら、光と電子の統合処理を実現するデバイスの開発につながることが期待されています。

※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。

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