Junichi Koike 研究室
主宰者：Junichi Koike
東北大学
AI 要約（直近 5 年の研究成果）
Koike研究室では、半導体デバイスの配線材料として銅に代わる新しい材料の開発を進めています。具体的には、金属化合物（特に銅とアルミニウムやマグネシウム、ニッケルから成る化合物）やこれらの材料を用いた接触構造に着目し、電気的性質、信頼性、微細化に伴う特性変化を系統的に調査しています。
研究アプローチとしては、計算熱力学シミュレーションと薄膜試料の作製・評価を組み合わせています。電気抵抗率の測定、電子マイグレーション試験、絶縁破壊試験など複数の信頼性評価手法を用いて、材料の実用性を多角的に検討しています。また窒化ガリウム上の金属接触においても、酸化物層を挿入することで接触抵抗を低減する方法を探索しています。
これらの研究から、従来の銅配線に比べて特定の金属化合物は電気抵抗が低く、配線の微細化に対応する優れた特性を示すこと、また適切なバリア層の設計により信頼性が向上することが報告されています。研究室は、次世代デバイスに対応できる配線材料および接触構造の実現に向けて、材料選択から信頼性検証までの一貫した研究を展開しています。
※ AI（Claude）が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。
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関連研究室(8 件)
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研究成果（26 件）
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- DOI: https://doi.org/10.1109/iitc/mam57687.2023.10154793
- [2023] [資料紹介] 歴史家への道程 : 塚本学日記DOI: https://doi.org/10.15024/0002000135
- [2023] Effects of Oxide Species on the Reduction of Contact Resistivity of Al/oxide/n-GaN MIS DevicesDOI: https://doi.org/10.1109/edtm55494.2023.10102978
- DOI: https://doi.org/10.1109/tdmr.2023.3340231
- DOI: https://doi.org/10.1021/acs.jpcc.3c05626
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- DOI: https://doi.org/10.1109/iitc/mam57687.2023.10154850
- DOI: https://doi.org/10.1109/iitc52079.2022.9881287
- DOI: https://doi.org/10.1109/iitc52079.2022.9881284
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2022.165615
- DOI: https://doi.org/10.1116/6.0001536
- DOI: https://doi.org/10.2139/ssrn.4035491
- DOI: https://doi.org/10.2320/jinstmet.j2022020
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0100250
- DOI: https://doi.org/10.1109/iitc51362.2021.9537369
- DOI: https://doi.org/10.1109/iitc51362.2021.9537528
- DOI: https://doi.org/10.1109/iitc51362.2021.9537364
- DOI: https://doi.org/10.1063/5.0026837
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