Kenji Shiraishi 研究室

主宰者Kenji Shiraishi
名古屋大学・Nagoya University Hospital

AI 要約(直近 5 年の研究成果)

白石健二研究室は、半導体材料やデバイスの性能を向上させるための原子・電子構造を理論計算と実験により解明する研究を展開しています。特に、次世代メモリデバイスやパワーデバイスの実用化に向けて、材料内部の微視的な欠陥や界面構造がデバイス特性に与える影響を調べています。例えば、フラッシュメモリに用いられる窒化珪素の組成最適化、ガリウム窒化物と酸化膜の界面構造、シリコンカーバイドの酸化過程など、様々な材料系について研究を行っています。 研究手法としては、第一原理計算(密度汎関数理論)を主軸としながら、原子分解能の電子顕微鏡観察と組み合わせて材料の構造を解析しています。これにより、原子スケールでの欠陥形成メカニズムや化学反応プロセスを明らかにしています。また、半導体製造プロセスに関連する気相反応の熱力学や反応速度も理論計算により検討しており、実際のプロセス条件との比較を通じてプロセス設計の指針を得ています。 これらの研究を通じて、欠陥や不純物がデバイス性能をどのように支配するかを原子レベルで理解し、材料設計やプロセス条件の最適化に関する実用的な知見を提供しています。

※ AI(Claude)が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。

外部リンク

関連研究室(8 件)

研究成果(65 件)

続きを表示(残り 55 件)

科研費(0 件)

まだデータがありません(KAKEN 取り込み後に表示)。

所属学会・役職(0 件)

まだデータがありません(学会データ連携後に表示)。