Mitsumasa Koyanagi 研究室
主宰者:Mitsumasa Koyanagi
東北大学
AI 要約(直近 5 年の研究成果)
Koyanagi研究室は、次世代の高性能半導体デバイスを実現するための3次元集積回路(3D-IC)技術に取り組んでいます。研究の中心は、複数のチップを積層し、シリコンを貫通させた微細な配線(TSV)で接続する技術です。この3D化により、従来の平面的な設計では達成できない高い集積度と処理速度を目指しています。
材料・プロセス面では、銅電極の表面特性とそれが接合品質に与える影響を詳細に調べています。銅粒子の大きさと向きを制御することで、接合部の抵抗を大幅に低減し、より信頼性の高い接続を実現する方法を開発しました。また、様々な接合方式(銅-銅直接接合、ハイブリッド接合、はんだ接合)について最適な温度・圧力条件を探索し、それぞれの手法の実用化を進めています。
さらに、この3D集積技術を活用した応用システムの開発にも着手しており、3次元積層型のニューラルネットワーク回路の設計・試作を行っています。脳に着想を得た計算方式をハードウェア化することで、AI処理などの複雑な演算を効率的に実行できるチップの実現を目指しています。
※ AI(Claude)が、公開されている論文要旨から研究の問い・手法・主要な発見を事実情報として抽出・再構成して自動生成しています。誤りを含む可能性があるため、正確性は研究室公式情報でご確認ください。
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関連研究室(8 件)
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研究成果(16 件)
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- DOI: https://doi.org/10.1109/ectc51909.2023.00292
- DOI: https://doi.org/10.1109/imfedk56875.2022.9975417
- DOI: https://doi.org/10.1109/ectc51906.2022.00115
- [2022] Tight-Pitched 10 μm-Width Solder Joints for c-2-c and c-2-w 3D-Integration in NCF EnvironmentDOI: https://doi.org/10.1109/ectc51906.2022.00184
- DOI: https://doi.org/10.1109/ectc51906.2022.00059
- DOI: https://doi.org/10.1109/3dic52383.2021.9687614
- [2021] Integration of Damage-less Probe Cards Using Nano-TSV Technology for Microbumped Wafer TestingDOI: https://doi.org/10.1109/3dic52383.2021.9687601
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- DOI: https://doi.org/10.1109/3dic52383.2021.9687604
- DOI: https://doi.org/10.7567/ssdm.2021.c-4-04
- DOI: https://doi.org/10.1109/ectc32696.2021.00060
- DOI: https://doi.org/10.1587/nolta.12.309
- DOI: https://doi.org/10.1109/3dic52383.2021.9687608
- DOI: https://doi.org/10.1109/ltb-3d53950.2021.9598372
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